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联发科挖角台积电老将余振华,强化先进制程布局
来源: | 作者:佚名 | 发布时间: 2026-05-02 | 0 次浏览 | 🔊 点击朗读正文 ❚❚ | 分享到:
2026 年 4 月 29 日,联发科宣布正式聘请台积电前资深研发高管余振华担任公司副总经理,负责先进制程研发与技术战略规划。余振华深耕台积电 20 余年,主导 2nm、3nm 工艺研发,此次加盟将助力联发科冲击高端芯片市场。
2026 年 4 月 29 日,全球第三大手机芯片设计公司联发科对外官宣,已正式聘请台积电前资深研发高管余振华担任公司副总经理,直接向 CEO 蔡力行汇报,核心职责是主导联发科 2nm 及以下先进制程工艺的研发、技术路线规划,以及与晶圆代工厂的战略合作,此举被业内视为联发科冲击高端手机芯片、AI 芯片市场的关键布局。
余振华作为台积电的核心技术骨干,拥有 20 余年先进制程研发经验,是台积电 3nm 工艺的主要负责人之一,深度参与 2nm 工艺的研发规划与技术攻坚,在 FinFET、GAA(环绕栅极)、混合键合等先进工艺技术领域拥有深厚积累与行业影响力。在台积电任职期间,他主导完成了 3nm 工艺的量产良率提升、成本优化,推动台积电 2nm 工艺按计划推进,锁定大量高端 AI 芯片订单。
此次联发科成功挖角余振华,核心目的是强化先进制程技术储备,打破当前在高端芯片市场的发展瓶颈。当前手机芯片市场,联发科在中低端领域占据优势,但在高端旗舰芯片市场,份额远低于高通;AI 芯片领域,联发科尚未推出具备竞争力的产品,错失 AI 算力爆发红利。余振华的加盟,将直接为联发科带来先进制程技术与行业资源,助力其快速推进 2nm 工艺芯片研发,打造高端手机芯片与 AI 芯片产品矩阵。
与此同时,联发科公开声明,公司先进封装技术路线将与英特尔 EMIB 方案划清界限,全力押注台积电 CoWoS 封装技术,进一步深化与台积电的战略合作。业内分析认为,联发科此举是 “选边站队”,在全球先进制程与先进封装资源高度紧张的背景下,绑定台积电将确保其先进工艺产能稳定,同时借助余振华的行业影响力,优先获取台积电 2nm 工艺产能配额。
对于台积电而言,核心技术高管被挖角,将加剧先进制程研发的人才流失风险。当前全球半导体行业高端人才竞争激烈,三星、英特尔、联发科等企业均在高薪挖角台积电技术人才,此次余振华加盟联发科,或将引发新一轮的半导体行业人才流动潮。而联发科在余振华的助力下,有望在 2027 年推出基于 2nm 工艺的高端手机芯片,直接对标高通骁龙旗舰系列,重塑全球手机芯片市场格局。